สารนี้ใช้หลักๆ เป็นตัวสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสูตร photoresist ขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ สารเคมีนี้ปล่อยกรดที่แรงเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ในกระบวนการ lithography ได้ ประสิทธิภาพสูงและความเสถียรทำให้เหมาะสำหรับการผลิตคุณสมบัติความละเอียดสูงในวงจรรวมและอุปกรณ์นาโนสเกลอื่นๆ นอกจากนี้ยังใช้ในการพัฒนาวัสดุขั้นสูง เช่น เคลือบฟังก์ชันและโพลิเมอร์ ที่ต้องการการสร้างกรดที่ควบคุมสำหรับการดัดแปลงเคมีเฉพาะหรือกระบวนการ curing ความเข้ากันได้กับพื้นผิวต่างๆ และความสามารถในการทำงานภายใต้สภาวะที่ท้าทายทำให้มีประโยชน์ในแอปพลิเคชันเทคโนโลยีล้ำสมัย