สารเคมีนี้ถูกใช้อย่างแพร่หลายในสาขาการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งในฐานะเครื่องกำเนิดกรดจากแสงที่มีประสิทธิภาพสูง (PAG) มันมีบทบาทสำคัญในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งช่วยในการสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความสามารถในการสร้างกรดที่แรงเมื่อได้รับแสงทำให้มีคุณค่าต่อสูตร photoresist ขั้นสูง นอกจากนี้ ยังถูกใช้ในงานปรับเปลี่ยนพื้นผิวและการเคลือบ เพื่อเสริมคุณสมบัติของวัสดุ เช่น การกันน้ำและความต้านทานต่อสารเคมี โครงสร้างที่ไม่เหมือนใครยังทำให้เหมาะสำหรับการวิจัยในสารประกอบฟลูออรีนและการประยุกต์ใช้เฉพาะทาง