ใช้เป็นสารเคมีหลักในกระบวนการโฟโตโพลิเมอไรเซชัน โดยเฉพาะในการผลิตวัสดุภาพความละเอียดสูง ทำหน้าที่เป็นตัวสร้างกรดจากแสง (photoacid generator) ซึ่งปล่อยกรดแรงเมื่อได้รับแสง UV เพื่อเริ่มต้นการโพลิเมอไรเซชันของมอนอเมอร์ ทำให้มีคุณค่าต่อการผลิตโฟโต้เรซิสต์ขั้นสูงสำหรับอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์ นอกจากนี้ ยังใช้ในการพัฒนาสารเคลือบ กาว และหมึกที่ต้องการการแข็งตัว (curing) อย่างแม่นยำภายใต้การสัมผัสแสง ประสิทธิภาพในการสร้างสารปฏิกิริยาภายใต้สภาวะควบคุมทำให้เหมาะสำหรับงานวิจัยในสังเคราะห์อินทรีย์และวิทยาศาสตร์วัสดุ