เกลือ TRIARYLSULFONIUM HEXAFLUOROPHOSPHATE SALTS ถูกใช้อย่างแพร่หลายเป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generators: PAGs) ในอุตสาหกรรมโฟโต้เรซิสต์ โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) สารเหล่านี้จะปล่อยกรดที่แรง ซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้ ความไวและประสิทธิภาพสูงทำให้สารเหล่านี้จำเป็นสำหรับกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง รวมถึงลิโธกราฟี UV ลึกและลิโธกราฟี EUV (extreme UV) ซึ่งสำคัญสำหรับการผลิตวงจรรวมที่เล็กลงและซับซ้อนมากขึ้น นอกจากนี้ เกลือเหล่านี้ยังถูกใช้ในสารเคลือบ กาว และแผ่นพิมพ์ที่ต้องการการเยื่อแข็งหรือการเชื่อมข่ายจาก UV ความเสถียรและประสิทธิภาพภายใต้การสัมผัสแสงช่วยให้มีความยืดหยุ่นในแอปพลิเคชันไฮเทคต่างๆ