สารเคมีนี้ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายเป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในสูตรโฟโตเรซิสต์สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ มันมีบทบาทสำคัญในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟี โดยสร้างกรดเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) กรดนี้เร่งปฏิกิริยาเคมีที่เปลี่ยนแปลงความละลายของโฟโตเรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ได้ ความไวต่อแสงและประสิทธิภาพสูงทำให้เหมาะสำหรับกระบวนการผลิตขั้นสูง รวมถึงการผลิตวงจรรวมและไมโครชิป นอกจากนี้ ยังมีคุณค่าจากความเสถียรทางความร้อนและความเข้ากันได้กับวัสดุรีซิสต์หลากหลายชนิด ซึ่งรับประกันการถ่ายภาพความละเอียดสูงและประสิทธิภาพในเทคโนโลยีชั้นนำ