สารเคมีนี้ถูกนำมาใช้หลัก ๆ เป็นตัวสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ที่มีประสิทธิภาพสูงในสาขาฟอโตลิโธกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดที่แรง ซึ่งสำคัญสำหรับการเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นในการสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความเสถียรและประสิทธิภาพทำให้เป็นส่วนประกอบที่มีคุณค่าในสูตร photoresist ขั้นสูง ช่วยให้ผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่เล็กลงและซับซ้อนมากขึ้น นอกจากนี้ยังใช้ในการวิจัยและพัฒนาเพื่อศึกษากลไกการสร้างกรดจากแสงและปรับปรุงวัสดุ photoresist สำหรับเทคโนโลยีรุ่นถัดไป