ใช้เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ที่มีประสิทธิภาพสูงในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) หรือแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) จะปล่อยกรดซัลโฟนิกที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโตเรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำในวงจรไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ความเสถียรทางความร้อนและการสร้างกรดที่มีประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับลิโธกราฟีความละเอียดสูงที่จำเป็นในการผลิตชิปขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในปฏิกิริยาโพลิเมอร์ไรเซชันแบบไคคะตีออนิกที่ต้องการการเริ่มต้นที่ควบคุมได้ภายใต้การรับแสง