ใช้เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต จะปล่อยกรดซึ่งทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการเปลี่ยนแปลงทางเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ ทำให้สามารถพัฒนาลายเส้นที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้ กลุ่มไซโคลโพรเพนและพทาลิไมด์ของมันช่วยเพิ่มความเสถียรทางความร้อนและการกำเนิดกรดที่มีประสิทธิภาพ ทำให้เหมาะสำหรับการสร้างลายเส้นความละเอียดสูงในไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังมีการสำรวจใช้ในโพลิเมอร์พิเศษและเป็นตัวเชื่อมขวางในสารเคลือบที่ไวต่อแสง