ใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในกระบวนการฟอตอคีวีเทชัน (photoacid generator) โดยเฉพาะในระบบเคลือบฟิล์มที่ไวต่อแสง เช่น เรซินเชิงลบในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์และแผ่นวงจรพิมพ์ เนื่องจากสามารถปลดปล่อยกรดได้เมื่อได้รับแสง UV ซึ่งช่วยกระตุ้นการเกิดปฏิกิริยาโพลีเมอไรเซชันหรือการข้ามพันธะของเรซิน ทำให้ได้ชั้นฟิล์มที่มีความละเอียดสูงและทนต่อสารกัดกร่อน นอกจากนี้ยังใช้ในหมึกพิมพ์ที่ไวต่อแสงและวัสดุโฟโตรีซิสท์สำหรับการผลิตอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์