ใช้เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (PAG) ในสูตร photoresist สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในชั้นต้านทานแสง (resist) ทำให้สามารถพัฒนาลวดลายที่แม่นยำในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟี ใช้กันทั่วไปใน photoresist แบบโทนบวกและลบสำหรับการถ่ายภาพความละเอียดสูง โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตชิปขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการ curing ของอีพ็อกซี่บางชนิดที่ต้องการการเริ่มต้นกรดจากแสง ให้การพอลิเมอไรเซชันที่ควบคุมได้ตามต้องการโดยไม่ต้องใช้ความร้อน