ใช้เป็นตัวสร้างกรดด้วยแสง (Photoacid Generator: PAG) ในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (Deep Ultraviolet: DUV) หรือแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (Extreme Ultraviolet: EUV) จะปล่อยกรดที่แรงออกมา ซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ (photoresist) ทำให้สามารถพัฒนาลายเส้นได้อย่างแม่นยำ

โครงสร้างที่ป้องกันด้วย Boc ช่วยเพิ่มความละลายและความเสถียรในสูตรโฟโต้เรซิสต์ ในขณะที่ไคชันซัลโฟเนียม (sulfonium cation) ให้การสร้างกรดที่มีประสิทธิภาพพร้อมความเสถียรทางความร้อนที่ดี

นิยมใช้ในโฟโต้เรซิสต์ที่ขยายสัญญาณด้วยเคมี (Chemically Amplified Resists: CARs) สำหรับการสร้างลายเส้นความละเอียดสูงในไมโครอิเล็กทรอนิกส์และการผลิตวงจรรวม (integrated circuit)