ใช้เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator) ในสูตร photoresist ขั้นสูงสำหรับ lithography ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตหรือ deep ultraviolet จะปล่อยกรดที่แรง (triflic acid) ซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในฟิล์ม resist ทำให้สามารถพัฒนาลวดลายที่แม่นยำ นอกจากนี้ยังใช้ในปฏิกิริยาโพลิเมอร์ไรเซชันแบบแคทไอออนิก โดยเริ่มต้นการ curing ของโมโนเมอร์ epoxy และ vinyl ether ภายใต้การรับแสง มีประโยชน์ในระบบเคลือบผิว หมึกพิมพ์ และกาว ความคงทนทางความร้อนและการกำเนิดกรดที่มีประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องการความละเอียดสูงและการควบคุมปฏิกิริยาในกระบวนการไมโครแฟบริเคชัน