ใช้เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสง จะปล่อยกรดซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำในส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โครงสร้างแกนอะดาแมนเทนให้ความเสถียรทางความร้อนและความแข็งแกร่ง ในขณะที่กลุ่มไดเมทอกซีฟีนิลเพิ่มความละลายและความไวต่อแสง สารประกอบนี้มีคุณค่าอย่างยิ่งในลิโธกราฟีอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) และอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) เนื่องจากสามารถสร้างลวดลายความละเอียดสูงด้วยการปล่อยก๊าซต่ำ สนับสนุนให้ผลผลิตและประสิทธิภาพในการผลิตวงจรรวมดีขึ้น