ใช้หลักๆ เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตหรือแสงอัลตราไวโอเลตลึก จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ความคงตัวทางความร้อนสูงและการกำเนิดกรดที่มีประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับโฟโต้ลิโธกราฟีความละเอียดสูง รวมถึงการใช้งานในการผลิตวงจรรวมและไมโครโปรเซสเซอร์ นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการบ่มและเชื่อมข่ายโพลิเมอร์พิเศษที่ต้องการการเริ่มต้นกรดที่ควบคุมได้