ใช้หลักๆ เป็นสารสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสูตร photoresist สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ สร้างกรดเมื่อได้รับแสง UV ซึ่งช่วยในกระบวนการ patterning ระหว่าง lithography สารนี้มีค่าด้วยความไวสูงและประสิทธิภาพในการผลิตลายละเอียดบนเวเฟอร์ซิลิคอน นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยวัสดุขั้นสูงสำหรับพัฒนาระบบถ่ายภาพความละเอียดสูง ความเสถียรภายใต้สภาวะการแปรรูปทำให้เหมาะสำหรับใช้ในเทคโนโลยี lithography แบบ deep UV และ extreme UV