ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิค CVD (Chemical Vapor Deposition) เพื่อสร้างฟิล์มบางของนิกเกิลหรือสารประกอบนิกเกิลบนพื้นผิวต่าง ๆ ซึ่งมีความสำคัญในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และวัสดุขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตชิ้นส่วนที่ต้องการความบริสุทธิ์สูงและการควบคุมความหนาของชั้นฟิล์มอย่างแม่นยำ นอกจากนี้ยังใช้ในงานสังเคราะห์สารอินทรีย์ที่ต้องการตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีนิกเกิลเป็นองค์ประกอบ และสามารถนำไปใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุแม่เหล็กหรือตัวนำไฟฟ้าได้