ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ขั้นสูงที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง โดยเฉพาะในงานเคลือบผิวที่ต้องการคุณสมบัติทนต่ออุณหภูมิสูงและทนต่อการกัดกร่อน สารนี้มีบทบาทสำคัญในเทคนิคการเคลือบด้วยการสลายตัวของสารประกอบทางเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของไนโอเบียมออกไซด์ ซึ่งมีการนำไปใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และออปติคัล เช่น ตัวเก็บประจุ ฟิลเตอร์แสง และเลนส์พิเศษ นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของไนโอเบียมที่มีโครงสร้างเฉพาะในงานวิจัยด้านวัสดุศาสตร์