Tetrakis(dimethylamido)hafnium

99.9999% metals basis

Reagent รหัส: #242434
fingerprint
หมายเลข CAS 19782-68-4

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 354.79 g/mol
สูตร C₈H₂₄HfN₄
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD01862473
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point 26-29 °C (lit.)
Boiling Point 85 °C at 0.1 mmHg (lit.)
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
Density 1.098 g/cm3 at 25 °C (lit.)
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature, dry

description รายละเอียดสินค้า

ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ฟิล์มบางของออกไซด์ฮาเฟเนียม โดยเฉพาะในกระบวนการเคลือบแบบ CVD หรือ ALD เพื่อผลิตวัสดุที่มีคุณสมบัติเป็นไดอิเล็กตริกสูง ซึ่งมีความสำคัญในอุตสาหกรรมชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ เช่น ทรานซิสเตอร์ขนาดเล็กและชิปหน่วยความจำ ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานและลดการรั่วของกระแสไฟฟ้าในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่มีขนาดนาโน

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 100g
10-20 days ฿389,990.00
inventory 25g
10-20 days ฿148,990.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
ตะกร้า สั่งซื้อ