ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยเคมีแบบออร์กาโนเมทัลลิก (MOCVD) สำหรับการสะสมฟิล์มบางที่มีซิร์โคเนียม โดยเฉพาะชั้นของเซอร์โคเนีย (ZrO₂) ชั้นฟิล์มเหล่านี้ทำหน้าที่เป็นไดอิเล็กทริกแบบ high-k ในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ฉนวนเกทในทรานซิสเตอร์ และชั้นเคลือบป้องกันในงานออปติคัลและแอปพลิเคชันบาเรียความร้อน ความระเหยและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับกระบวนการ deposition ที่อุณหภูมิต่ำ นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์วัสดุที่ doped ด้วยซิร์โคเนียมและนาโนวัสดุขั้นสูงสำหรับการเร่งปฏิกิริยาและเซ็นเซอร์