ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยไอสาร (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของทองแดงสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ คุณสมบัติการระเหยและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการสะสมชั้นทองแดงออกไซด์หรือโลหะทองแดงที่มีความบริสุทธิ์สูงที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยสำหรับการประยุกต์ใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาและเป็นแหล่งทองแดงในการสังเคราะห์นาโนวัสดุ เนื่องจากมีโครงสร้างที่ชัดเจนและละลายได้ในตัวทำละลายอินทรีย์ จึงถูกนำมาใช้ในวิธีการที่ใช้สารละลายในการผลิตเคลือบผิวที่มีฟังก์ชันและวัสดุขั้นสูง