ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางที่มีไทเทเนียม โดยเฉพาะชั้นไทเทเนียมออกไซด์ ซึ่งมีความสำคัญในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ ความระเหยและความเสถียรทางความร้อนของสารนี้ทำให้เหมาะสำหรับการ deposit ฟิล์มที่มีความบริสุทธิ์สูงที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยสำหรับการสังเคราะห์วัสดุที่ doped ด้วยไทเทเนียม และเป็นสารรีดิวซ์ในปฏิกิริยาออร์แกนิกเฉพาะทางเนื่องจากสถานะออกซิเดชัน Ti(III)