ใช้หลักๆ เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ chemical vapor deposition (CVD) สำหรับการฝังฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของพลาตินัม ฟิล์มเหล่านี้ใช้ในไมโครอิเล็กทรอนิกส์เป็นชั้นตัวนำไฟฟ้า โดยเฉพาะในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์และตัวเก็บประจุ เนื่องจากพลาตินัมมีเสถียรภาพและความนำไฟฟ้าที่ยอดเยี่ยม คุณสมบัติการระเหยและการสลายตัวด้วยความร้อนของสารประกอบนี้ทำให้เหมาะสมสำหรับการสร้างฟิล์มพลาตินัมที่มีความบริสุทธิ์สูงที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังมีการสำรวจในงานวิจัยสำหรับการใช้งานทางเร่งปฏิกิริยาและในการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ระดับนาโน