ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ chemical vapor deposition (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มและชั้นเคลือบที่มีนิกเกิล ฟิล์มเหล่านี้ถูกนำไปใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ การเร่งปฏิกิริยา และวัสดุแม่เหล็ก เนื่องจากคุณสมบัติการนำไฟฟ้าและการเร่งปฏิกิริยา นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาหรือสารตั้งต้นของตัวเร่งในสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะปฏิกิริยาที่ต้องการนิกเกิลในสภาพแวดล้อมการประสานที่กำหนดไว้ชัดเจน

คุณสมบัติการระเหยและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับเทคนิคการสะสมที่ต้องการการย่อยสลายที่ควบคุมได้ ในงานวิจัย ใช้ในการเตรียมวัสดุขนาดนาโนที่มีฟังก์ชันและโครงสร้างโลหะอินทรีย์ (MOFs) ที่ต้องการศูนย์นิกเกิล

นิยมใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์เพื่อสร้างฟิล์มที่มีความบริสุทธิ์สูงและชั้นบางที่สม่ำเสมอ ยังใช้เป็นตัวเร่งในปฏิกิริยาอินทรีย์ที่ต้องการสภาพแวดล้อมแห้งหรือความชื้นต่ำ เนื่องจากมีความเสถียรและสามารถให้ปฏิกิริยาที่เกี่ยวข้องกับนิกเกิลในรูปแบบประสาน