ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง สารประกอบนี้ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยเคมีแบบโลหะออร์กานิก (MOCVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางของไทเทเนียมไดออกไซด์ (TiO₂) ฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เซลล์แสงอาทิตย์ และระบบโฟโตคะตะไลติก เนื่องจากมีคุณสมบัติทางแสง ไฟฟ้า และโฟโตคะตะไลติกที่ยอดเยี่ยม ความผันผวนสูงและความเสถียรทางความร้อนของสารประกอบทำให้เหมาะสมสำหรับการ deposit ชั้นเคลือบที่สม่ำเสมอและบริสุทธิ์สูงที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังใช้ในการเตรียมไทเทเนียมออกไซด์ที่มีโครงสร้างนาโนสำหรับเซนเซอร์และการใช้งานเก็บพลังงาน ซึ่งการควบคุมองค์ประกอบและรูปร่างอย่างแม่นยำเป็นสิ่งสำคัญ