ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ที่มีจุดหลอมเหลวสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับทำเป็นไดอิเล็กทริกในทรานซิสเตอร์ นิยมนำมาใช้ในการสังเคราะห์ฟิล์มบางด้วยวิธีโซล-เจล เพื่อสร้างชั้นป้องกันหรือชั้นนำไฟฟ้าในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในบางกระบวนการเคมี และสามารถนำไปใช้ในงานเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความทนทานต่อความร้อนและการกัดกร่อน