Hafnium(IV) oxide

99.9% metals basis

Reagent รหัส: #193771
label
นามแฝง Hafnium dioxide
fingerprint
หมายเลข CAS 12055-23-1

science Other reagents with same CAS 12055-23-1

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 210.49 g/mol
สูตร HfO₂
badge หมายเลขทะเบียน
EC Number 235-013-2
MDL Number MFCD00003565
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point 2810 °C
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
Density 9.68 g/mL at 25 °C(lit.)
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature

description รายละเอียดสินค้า

ใช้ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์เป็นไดอิเล็กทริกชนิดหนาแน่นสูงในทรานซิสเตอร์ ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและลดการรั่วของกระแสไฟฟ้า นิยมใช้ในชิปคอมพิวเตอร์รุ่นใหม่ ๆ นอกจากนี้ยังใช้เป็นวัสดุเคลือบผิวที่ทนต่อความร้อนสูงและสารเคมีในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ รวมถึงใช้ในเลเซอร์และอุปกรณ์ออพติคัลที่ต้องการความแม่นยำสูง

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 2g
10-20 days ฿900.00
inventory 10g
10-20 days ฿3,360.00
inventory 50g
10-20 days ฿14,960.00
inventory 250g
10-20 days ฿70,550.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
Hafnium(IV) oxide
No image available
ใช้ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์เป็นไดอิเล็กทริกชนิดหนาแน่นสูงในทรานซิสเตอร์ ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและลดการรั่วของกระแสไฟฟ้า นิยมใช้ในชิปคอมพิวเตอร์รุ่นใหม่ ๆ นอกจากนี้ยังใช้เป็นวัสดุเคลือบผิวที่ทนต่อความร้อนสูงและสารเคมีในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ รวมถึงใช้ในเลเซอร์และอุปกรณ์ออพติคัลที่ต้องการความแม่นยำสูง
Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...