ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นก๊าซ etching ประสิทธิภาพสูง เนื่องจากมีความเสถียรทางความร้อนและสามารถสร้างสปีชีส์ฟลูออรีนที่ทำปฏิกิริยาได้ภายใต้สภาวะพลาสมา ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอเคมี (CVD) สำหรับสร้างชั้นเคลือบคาร์บอนคล้ายเพชรที่ฟลูออรีน ซึ่งให้ความแข็งแกร่งสูงสุดและความทนต่อสารเคมี นอกจากนี้ยังมีการวิจัยสำหรับใช้ในน้ำมันหล่อลื่นขั้นสูงสำหรับระบบไมโครอิเล็กโทรเมคานิคอล (MEMS) ที่ต้องการพลังงานพื้นผิวต่ำและคุณสมบัติไม่ติดกาว คุณสมบัติเฉื่อยทำให้เหมาะสำหรับส่วนผสมก๊าซพิเศษในเครื่องวิเคราะห์ที่ต้องการส่วนประกอบฟลูออโรคาร์บอนบริสุทธิ์สูง