ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุที่มีโคบอลต์ โดยเฉพาะในการผลิตฟิล์มบางและสารเคลือบผิวผ่านกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยเคมี (CVD) หรือการ deposition ชั้นอะตอม (ALD) มีบทบาทสำคัญในการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และแม่เหล็กขั้นสูง เนื่องจากสามารถให้โคบอลต์ที่มีความบริสุทธิ์สูง นอกจากนี้ ยังใช้ในการวิจัยและพัฒนาสำหรับการสร้างตัวเร่งปฏิกิริยาในปฏิกิริยาอินทรีย์ โดยโคบอลต์ทำหน้าที่เป็นศูนย์ актив กลุ่ม trifluoro ช่วยเพิ่มความละลายและปฏิกิริยา ทำให้เหมาะสำหรับการประยุกต์ใช้เฉพาะทางในวิทยาศาสตร์วัสดุและนาโนเทคโนโลยี