Hexafluoroacetylacetone ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เป็นสารตั้งต้นสำหรับการสะสมฟิล์มบางในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยมีบทบาทสำคัญในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยทางเคมี (CVD) ซึ่งช่วยสร้างชั้นวัสดุคุณภาพสูงและสม่ำเสมอ เช่น ออกไซด์โลหะหรือฟลูออไรด์ บนเวเฟอร์ซิลิคอน คุณสมบัติการระเหยและปฏิกิริยาของมันทำให้เหมาะสมสำหรับการผลิตเคลือบที่แม่นยำและควบคุมได้ ซึ่งจำเป็นสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

ในเคมีวิเคราะห์ ใช้เป็นสารจับเชิงซ้อน (chelating agent) สำหรับการสกัดและแยกไอออนโลหะ ความสัมพันธ์ที่แข็งแกร่งกับโลหะทรานซิชันช่วยให้เกิดการจับคู่ที่มีประสิทธิภาพ ทำให้มีประโยชน์ในการวิเคราะห์โลหะปริมาณร่องรอยและการตรวจสอบสิ่งแวดล้อม นอกจากนี้ ยังใช้ในการแปรรูปเชื้อเพลิงนิวเคลียร์เพื่อสกัดแยกแอกติไนด์และแลนทาไนด์จากเชื้อเพลิงที่ใช้แล้วอย่างเลือกสรร

Hexafluoroacetylacetone ยังใช้ในการสังเคราะห์อินทรีย์เป็นส่วนประกอบพื้นฐานสำหรับสร้างสารประกอบฟลูออรีน โครงสร้างที่ไม่เหมือนใครช่วยในการพัฒนาสารเคมีพิเศษที่มีความเสถียรทางความร้อนและเคมีสูง ซึ่งมีคุณค่าต่อวัสดุประสิทธิภาพสูงและการเคลือบ