ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางของอะลูมิเนียมออกไซด์ ซึ่งจำเป็นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบป้องกัน นอกจากนี้ยังทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ โดยเฉพาะในปฏิกิริยาการเกิดพอลิเมอร์ เนื่องจากความเสถียรและคุณสมบัติการเกิดปฏิกิริยาของมัน ยังถูกนำไปใช้ในการผลิตวัสดุขั้นสูง เช่น เซรามิกและนาโนคอมโพสิต ซึ่งต้องการการควบคุมปริมาณอะลูมิเนียมอย่างแม่นยำ บทบาทของมันในการสร้างการเคลือบทางแสงประสิทธิภาพสูงก็มีนัยสำคัญ เพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพของอุปกรณ์ทางแสง