Tantalum Precursors

สารตั้งต้นสำหรับการสะสมชั้นบางด้วยวิธี atomic layer deposition ของฟิล์ม tantalum nitride (TaN) ที่ใช้เป็นตัวกั้นการแพร่กระจายในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
ตะกร้า สั่งซื้อ