สารเคมีนี้ใช้หลักๆ เป็นสารตั้งต้นในการสะสมฟิล์มบางของออกไซด์เซอร์โคเนียมผ่านกระบวนการเช่น การสะสมไอสารเคมี (CVD) หรือ การสะสมชั้นอะตอม (ALD) ฟิล์มเหล่านี้จำเป็นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับสร้างชั้นไดอิเล็กทริกแบบ high-k ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เช่น ทรานซิสเตอร์และคาปาซิเตอร์ นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในการผลิตสารเคลือบพิเศษที่เพิ่มความต้านทานความร้อนและเคมีของวัสดุที่ใช้ในสภาพแวดล้อมอุณหภูมิสูง บทบาทในฐานะตัวเร่งปฏิกิริยาก็มีนัยสำคัญ โดยเฉพาะในปฏิกิริยาสังเคราะห์อินทรีย์ที่ช่วยในการก่อตัวโครงสร้างโมเลกุลที่ซับซ้อน