ใช้เป็นตัวสร้างกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับการฉายรังสีแสงอัลตราไวโอเลต จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโตเรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ได้ ความไวสูงและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานในลิโธกราฟีแบบ UV ลึกและ EUV นอกจากนี้ยังใช้ในปฏิกิริยาโพลิเมอไรเซชันแบบแคทไอออนิกที่ต้องการการเริ่มต้นด้วยกรดที่ควบคุมได้