สารเคมีนี้ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นสารตั้งต้นสำหรับการสะสมฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของแทนทาลัม ใช้ในกระบวนการ atomic layer deposition (ALD) และ chemical vapor deposition (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มคุณภาพสูงและสม่ำเสมอ ซึ่งจำเป็นสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง ฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในการผลิตตัวเก็บประจุ (capacitors), ไดอิเล็กทริกเกท (gate dielectrics), และกำแพงกั้นการแพร่ (diffusion barriers) ในวงจรรวม (integrated circuits) ความเสถียรทางความร้อนและปฏิกิริยาของมันทำให้เหมาะสำหรับการควบคุมองค์ประกอบและความหนาของฟิล์มอย่างแม่นยำ รับประกันประสิทธิภาพสูงสุดในไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ ยังใช้ในการวิจัยและพัฒนาสำหรับสำรวจวัสดุใหม่และการประยุกต์ใช้ในนาโนเทคโนโลยี