ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบซิลิกอนอินทรีย์ โดยเฉพาะในกระบวนการป้องกันกลุ่มไฮดรอกซิล (hydroxyl group protection) ในโมเลกุลอินทรีย์ ช่วยในการสร้างพันธะซิลิลเอเธอร์ (silyl ether) ซึ่งมีความเสถียรและสามารถกำจัดออกได้ง่ายในขั้นตอนถัดไป นอกจากนี้ยังใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เพื่อปรับปรุงคุณสมบัติของสารเคลือบผิวและวัสดุป้องกันความชื้น เนื่องจากมีความสามารถในการทำปฏิกิริยากับพื้นผิวที่มีกลุ่มไฮดรอกซิลได้อย่างมีประสิทธิภาพ