Tetrapropyl orthosilicate ใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตวัสดุฐานซิลิกา โดยเฉพาะในการสังเคราะห์ซีโอไลต์และโครงสร้างพรุนอื่นๆ มันทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ sol-gel ซึ่งช่วยในการสร้างฟิล์มบาง ชั้นเคลือบ และอนุภาคนาโนที่มีรูพรุนและคุณสมบัติพื้นผิวที่ควบคุมได้ ในสาขาการเร่งปฏิกิริยา ใช้ในการเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยาและตัวพยุงที่มีความเสถียรทางความร้อนสูงและพื้นที่ผิวมาก ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการเกิดปฏิกิริยา นอกจากนี้ ยังมีการประยุกต์ใช้ในการพัฒนาวัสดุทางแสงและอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งความสามารถในการก่อตัวชั้นซิลิกาให้สม่ำเสมอมีความสำคัญต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์ นอกจากนี้ยังใช้ในการผลิตชั้นเคลือบป้องกันสำหรับโลหะและเซรามิก ซึ่งให้ความต้านทานต่อการกัดกร่อนและการสึกหรอ