ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตฟิล์มบางและสารเคลือบบนพื้นฐานซิลิก้าผ่านกระบวนการโซล-เจล มีประสิทธิภาพสูงโดยเฉพาะในการสะสมไอสารเคมี (CVD) และการเคลือบแบบหมุน (spin-coating) ซึ่งช่วยในการก่อตัวชั้นไดอิเล็กทริกที่มีความสม่ำเสมอและความบริสุทธิ์สูงบนอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากความตอบสนองทางเคมีและความสามารถในการสร้างซิลิกาที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง จึงได้รับความนิยมในไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับชั้นฉนวน และในสารเคลือบทางแสงสำหรับความชัดเจนและความทนทาน นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์วัสดุไฮบริดออร์แกนิก-อนอร์แกนิกและแอโรเจล ซึ่งการไฮโดรไลซิสที่ควบคุมนำไปสู่โครงสร้างพรุนที่มีคุณสมบัติการฉนวนความร้อน