ไตรซิเลนถูกใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ซิลิคอนและวัสดุที่มีซิลิคอนเป็นส่วนประกอบ โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตฟิล์มบางของซิลิคอนที่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และเซลล์แสงอาทิตย์ ไตรซิเลนมีความสามารถในการสลายตัวที่อุณหภูมิค่อนข้างต่ำ ทำให้เหมาะสำหรับการใช้ในกระบวนการเคลือบด้วยการสลายตัวของไอ (CVD) เพื่อสร้างชั้นซิลิคอนคุณภาพสูงบนพื้นผิวต่าง ๆ นอกจากนี้ยังมีศักยภาพในการใช้ในงานนาโนเทคโนโลยี เช่น การผลิตเส้นใยซิลิคอนหรือโครงสร้างนาโนที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง