ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตวัสดุพื้นฐานซิลิกอน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และกระบวนการสะสมฟิล์มบาง มันทำหน้าที่เป็นแหล่งซิลิกอนธาตุในกระบวนการสะสมไอสารเคมี (CVD) ซึ่งจะสลายตัวที่อุณหภูมิสูงเพื่อสร้างชั้นซิลิกอนบริสุทธิ์บนพื้นผิว นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์นาโนอนุภาคซิลิกาและซิลิกอนคาร์ไบด์ เนื่องจากความสามารถในการปล่อยกลุ่มเอทิลเมื่อสลายตัวด้วยความร้อน ซึ่งช่วยให้เกิดปฏิกิริยาที่ควบคุมได้ ความเหินลอยและปฏิกิริยาของมันทำให้เหมาะสำหรับการสังเคราะห์อินทรีย์เฉพาะทางและเป็นตัวเร่งในการพัฒนาโพลิเมอร์และสารเคลือบบนพื้นฐานซิเลน