ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นสารตั้งต้นซิลิคอนสำหรับกระบวนการเคลือบบางแบบเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มซิลิคอนคุณภาพสูง การย่อยสลายที่ควบคุมได้ช่วยให้สามารถสร้างชั้นนานาได้อย่างแม่นยำในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูงและอุปกรณ์โฟโตโวลตาอิก นอกจากนี้ยังมีการศึกษาวิจัยสำหรับใช้ในการสังเคราะห์นาโนวัสดุที่เป็นฐานซิลิคอนและในสารเคลือบพิเศษที่ต้องการฟิล์มบางที่สม่ำเสมอ