ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์โพลิเมอร์ 기반ซิลิคอนและฟิล์มบาง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบผิว กลุ่ม vinyl ที่ทำปฏิกิริยาได้ช่วยให้เกิดการเชื่อมขวางในเรซินซิลิโคน เพิ่มความเสถียรทางความร้อนและความแข็งแรงทางกล นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตชั้นคาร์ไบด์ซิลิคอนหรือชั้นไนไตรด์อุดมซิลิคอนสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ความผันผวนและความทำปฏิกิริยาของสารนี้ทำให้เหมาะสมสำหรับการสร้างวัสดุที่มีซิลิคอนบริสุทธิ์สูงภายใต้สภาวะที่ควบคุมได้