ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบซิลิกอนที่มีความเฉพาะเจาะจงสูง โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตวัสดุที่มีพื้นผิวพิเศษ เช่น การเคลือบพื้นผิวแก้วหรือโลหะเพื่อเพิ่มคุณสมบัติในการกันน้ำและกันคราบ นอกจากนี้ยังใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และในกระบวนการผลิตสารเคลือบป้องกันที่มีความทนทานต่อสารเคมีและอุณหภูมิสูง