AZ304 ถูกใช้อย่างแพร่หลายในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยทำหน้าที่เป็นสารล้างโฟโตเรซิสต์ ซึ่งมีความสำคัญสำหรับการถ่ายโอนลวดลายที่ซับซ้อนลงบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนในระหว่างการผลิตวงจรรวมและไมโครชิป สูตรที่แม่นยำของมันช่วยรับประกันความละเอียดและความแม่นยำสูง ทำให้สามารถผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูงได้ นอกจากนี้ยังเข้ากันได้กับพื้นผิวและระบบการรับแสงที่หลากหลาย ทำให้เป็นตัวเลือกที่ยืดหยุ่นสำหรับกระบวนการผลิตในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และนาโนเทคโนโลยี การจัดการและการกำจัดอย่างเหมาะสมจำเป็นเนื่องจากคุณสมบัติทางเคมีของมัน