Ethylene Glycol Bis(2-nitrophenyl) Ether ใช้หลักในการวิจัยและพัฒนาเป็นสารป้องกันที่ไวต่อแสง (photolabile protecting group) ในกระบวนการสังเคราะห์อินทรีย์ ความสามารถในการแตกตัวด้วยปฏิกิริยาโฟโตเคมีทำให้มีคุณค่าต่อการปล่อยโมเลกุลที่ใช้งานได้อย่างควบคุมในระบบที่ตอบสนองต่อแสง สารประกอบนี้ยังถูกนำมาใช้ในการศึกษาปฏิกิริยาโฟโตเคมีและในการพัฒนาวัสดุที่ไวต่อแสง นอกจากนี้ยังมีการประยุกต์ใช้ในการสังเคราะห์โมเลกุลอินทรีย์ที่ซับซ้อนซึ่งต้องการการป้องกันและถอนการป้องกันกลุ่มฟังก์ชันอย่างเลือกสรร บทบาทของมันในวิทยาศาสตร์วัสดุขั้นสูงและโฟโตเคมีเน้นย้ำถึงความสำคัญในแอปพลิเคชันทางวิทยาศาสตร์ที่เป็นนวัตกรรม