Tri-p-tolylsulfonium Trifluoromethanesulfonate เป็นสารเคมีที่ใช้ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟี (Photolithography) ซึ่งเป็นขั้นตอนสำคัญในการผลิตวงจรรวมและอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากสารนี้มีคุณสมบัติเป็น photoacid generator (PAG) ที่สามารถปล่อยกรดเมื่อได้รับแสง UV ทำให้เกิดปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นในการสร้างรูปแบบบนวัสดุไวแสง นอกจากนี้ยังถูกนำมาใช้ในอุตสาหกรรมการเคลือบผิวและการผลิตวัสดุที่มีความละเอียดสูง เช่น แผงวงจรพิมพ์และเซ็นเซอร์ เนื่องจากประสิทธิภาพในการควบคุมกระบวนการทางเคมีอย่างแม่นยำ