สารนี้ถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และวัสดุศาสตร์ โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตสารเคลือบและวัสดุโฟโตเรซิสต์สำหรับการผลิตวงจรอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากมีคุณสมบัติในการเป็นสารเริ่มต้นที่ไวต่อแสง (photoacid generator) ซึ่งช่วยในการสร้างรูปแบบบนพื้นผิววัสดุได้อย่างแม่นยำ นอกจากนี้ยังถูกใช้ในกระบวนการสังเคราะห์สารเคมีอื่นๆ ที่ต้องการความแม่นยำสูง และในงานวิจัยด้านวัสดุศาสตร์เพื่อพัฒนาวัสดุใหม่ที่มีคุณสมบัติพิเศษ