สารเคมีนี้ถูกใช้หลักๆ เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีภายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยมีบทบาทสำคัญในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ด้วยการสร้างกรดเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) ซึ่งจะเริ่มต้นปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการสร้างลายเซมิคอนดักเตอร์วัสดุ ประสิทธิภาพสูงและความเสถียรภายใต้การสัมผัส UV ทำให้เหมาะสมสำหรับเทคนิคการลิโทกราฟีขั้นสูง รวมถึง deep UV (DUV) และ extreme UV (EUV) lithography

นอกจากนี้ ยังถูกนำไปใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์พิเศษและสารเคลือบผิว ซึ่งต้องการการสร้างกรดที่ควบคุมได้สำหรับกระบวนการเชื่อมขวางหรือการยับยั้ง กลุ่ม trifluoromethyl ช่วยเพิ่มความละลายในตัวทำละลายอินทรีย์ ทำให้มีความยืดหยุ่นสำหรับการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ