เคมีภัณฑ์นี้ใช้หลักๆ เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสูตร photoresist สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการสร้างลวดลายในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ประสิทธิภาพสูงและความเสถียรทำให้เหมาะสำหรับกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง รวมถึงลิโธกราฟี UV ลึก (DUV) และ UV สุดขีด (EUV) ซึ่งสำคัญสำหรับการผลิตวงจรรวมประสิทธิภาพสูง นอกจากนี้ยังใช้ในการผลิตแผงแสดงผลแบนและส่วนประกอบขนาดไมโครอื่นๆ ที่ต้องการการสร้างลวดลายที่แม่นยำและความละเอียดสูง ความเข้ากันได้กับระบบ resist ต่างๆ และความสามารถในการสร้างลวดลายที่สะอาด สนับสนุนการใช้งานอย่างแพร่หลายในการผลิตเทคโนโลยีขั้นสูง