ใช้อย่างแพร่หลายในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยทำหน้าที่เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในโฟโต้เรซิสต์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะสร้างกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นในการสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ซึ่งเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการผลิตไมโครชิปและส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ ด้วยความแม่นยำสูงและการย่อขนาด นอกจากนี้ยังมีการประยุกต์ใช้ในงานวิจัยวัสดุขั้นสูง โดยเฉพาะในการพัฒนาเคลือบผิวประสิทธิภาพสูงและโพลิเมอร์ที่ต้องการการเยื่อแห้งหรือการเชื่อมขวางที่ควบคุมได้ภายใต้การสัมผัสแสง ความเสถียรและประสิทธิภาพทำให้เป็นตัวเลือกที่ชื่นชอบในอุตสาหกรรมที่ต้องการการสร้างลวดลายความละเอียดสูงและประสิทธิภาพที่เชื่อถือได้