สารเคมีนี้ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในฐานะตัวสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสาขาฟอโตลิโธกราฟี โดยเฉพาะอย่างยิ่งในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ มันมีบทบาทสำคัญในการผลิตโฟโต้เรซิสต์ ซึ่งจะสร้างกรดที่แรงเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) กรดเหล่านี้จะเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการพัฒนาลวดลายที่ต้องการบนเวเฟอร์ซิลิคอน ทำให้สามารถผลิตวงจรรวมและส่วนประกอบไมโครอื่นๆ ได้อย่างแม่นยำ ประสิทธิภาพสูงและความเสถียรภายใต้การสัมผัส UV ทำให้เป็นตัวเลือกที่ชื่นชอบในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง รวมถึงลิโธกราฟี UV ลึกและ UV สุดขีด (EUV) นอกจากนี้ ยังถูกนำมาใช้ในการสังเคราะห์สารประกอบอินทรีย์และวัสดุที่ต้องการการสร้างกรดแบบควบคุม